CAS NO:2628-16-2 PACS/AST/4-atsetoksüstüreen

Molekulivalem: C10H10O2
Molekulmass: 162,19
Kasutamine: 4-atsetoksüstüreeni kasutatakse peamiselt pooljuhtide mikroelektroonikas KrF fotoresistis, funktsionaalses polümeervaigus, ioonvahetusadsorptsioonvaigus ja farmaatsia orgaanilise sünteesitööstuses.

Küsi pakkumist

Kirjeldus

Tehnilised parameetrid

Toodete kirjeldus

4-atsetoksüstüreen (AST) on atsetüüli kaitserühmaga stüreeni monomeer. Sellel on parem säilivusstabiilsus kui 4-hüdroksüstüreenil. Seda saab pärast polümerisatsiooni hüdrolüüsida polühüdroksüstüreeni (PHS) saamiseks. Madala metallilisandiga on see 248 nm KrF fotoresisti alusvaigu peamine tooraine.

Toote spetsifikatsioon

Toote nimi	pACS/AST/4-atsetoksüstüreen
CAS NR	2628-16-2
KAUPA NR	M212
Välimus	Värvitu selge vedelik
Puhtus	99%
Tihedus	1,06 g/ml 25 kraadi juures
Murdumisnäitaja	1.538
Keemistemperatuur	260 kraadi
Sulamistemperatuur	7-8 kraadi
pakett	100g/1kg/10kg jne.
Kohaletoimetamine	2-3 päeva
Säilitamine	2-8 kraadi
MSDS/COA/TDS	Ühendage meid

Toodete rakendus

4-atsetoksüstüreeni (pACS/AST) kasutatakse peamiselt KrF fotoresistis pooljuhtide mikroelektroonika, funktsionaalsete polümeervaikude ja farmaatsia orgaanilise sünteesi jaoks.

product-3000-1095

KKK

K: Millist rolli mängib pACS KrF fotoresisti tootmises?

V: Pärast polümerisatsiooni ja hüdrolüüsi moodustab pACS PHS-alusvaigu, mis on 248nm KrF-positiivse fotoresisti kilet moodustav põhivaik ja üks fotoresisti põhitoormaterjale.

K: Miks vajab pACS jahutamist 2–8 kraadi juures?

V: pACS sisaldab vinüülrühmi ja on toatemperatuuril altid isepolümerisatsioonile. Madala temperatuuriga jahutamine koos TBC inhibiitoriga võib tõhusalt pärssida polümerisatsiooni ja vältida atsetüülkaitserühmade enneaegset hüdrolüüsi.

K: Milliseid koostise eeliseid võib pACS monomeer KrF fotoresisti jaoks pakkuda?

V: pACS-il on kõrge puhtusaste ja vähe metallide lisandeid. Polümeriseeritud PHS-vaigul on kitsas molekulmassi jaotus. Saadud KrF fotoresist tagab kõrge kujutise eraldusvõime ja madala joone kareduse, mis sobib räniplaatide peenahela valmistamiseks.

K: Millised stsenaariumid sobivad pACS-ist valmistatud valgustundlike katete jaoks?

V: Kattel on kuumakindlus ja seda saab kasutada elektrooniliste komponentide kaitsekattena, et see vastaks kõrge temperatuurikindluse ja isolatsioonikaitse nõuetele.

Kuum tags: toote nr:2628-16-2 pakki/ast/4-atsetoksüstüreeni, Hiina kaubanumbri: 2628-16-2 pakki/ast/4-atsetoksüstüreeni tootjad, tarnijad