Toodete kirjeldus
PEES (pEES) kannab happe suhtes labiilset etoksüetoksü kaitserühma, mida saab happekatalüüsiga kiiresti eemaldada. Sellel on hea termiline stabiilsus ja väga vähe metallide lisandeid. Seda saab polümeriseerida polühüdroksüstüreeni (PHS) valmistamiseks kõrge eraldusvõimega KrF keemiliselt võimendatud fotoresisti jaoks.
Toote spetsifikatsioon
| Toote nimi | PEES/4-(etoksüetoksü)stüreen |
| CAS NR | 157057-20-0 |
| KAUPA NR | M120 |
| Välimus | Värvitu selge vedelik |
| Puhtus | 99% või suurem |
| Veesisaldus | 0,05% või vähem |
| Metalliioonide lisandid | Vähem kui 1 ppb või sellega võrdne |
| pakett | 100g/1kg/10kg jne. |
| Kohaletoimetamine | 2-3 päeva |
| Säilitamine | toatemperatuur |
| MSDS/COA/TDS | Ühendage meid |
Toodete rakendus
PEES-i (p-(1-etoksüetoksü)stüreeni) kasutatakse peamiselt KrF-i fotoresistvaigu sünteesiks pooljuhtide mikroelektroonikas, funktsionaalsetes polümeermaterjalides ning arenenud uute materjalide uurimis- ja arendustegevuses.
KKK
K: Millised on PEES-i salvestusnõuded?
V: Stabiliseeritud TBC inhibiitoriga. Hoida suletuna 2–8 kraadi juures valguse eest kaitstult. Isoleerige õhk ja soojusallikas, et vältida vinüüli isepolümerisatsiooni ja enneaegset kaitse eemaldamist happega.
K: Mis on PEES-monomeeri põhimõte KrF fotoresistvaigusüsteemis?
V: PEES sisaldab happetundlikku etoksüetoksükaitserühma. Pärast litograafiaga kokkupuudet tekkinud fotohape käivitab kaitse eemaldamise. Vaik muutub leelislahustuvast leelislahustuvaks, et saavutada vahvli mustri arendamine.
K: Millist kaitset on vaja PEES-i tööks vastavalt SDS-ile?
V: See ärritab silmi, nahka ja hingamisteid. Töö tuleks läbi viia tõmbekapis kaitseprillide, lahustikindlate kinnaste ja näokaitsega.
K: Mis vahe on PEESi ja pACS / PTBS fotoresisti monomeeride vahel?
V: PEES-il on etoksüetoksü-kaitserühm, millel on kiire happekaitse eemaldamise kiirus. pACS vajab kaitse eemaldamiseks hüdrolüüsi, PTBS-is on tert-butoksürühm. Need on mõeldud erineva fotoresisti tundlikkuse jaoks.
K: Mis juhtub PEES-monomeeri happelabiilse kaitserühmaga KrF fotoresistiga kokkupuute ajal?
V: Kokkupuutel tekib fotohape. Etoksüetoksü kaitserühm lõhustub kiiresti. Polümeer muutub fenoolseks hüdroksüülstruktuuriks, muutudes litograafilise mustri arendamiseks leelislahustuvast leelislahustuvaks.
Kuum tags: CAS nr:157057-20-0 pees/4-(etoksüetoksü)stüreen, Hiina CAS nr:157057-20-0 pees/4-(etoksüetoksü)stüreeni tootjad, tarnijad
